有机污染物对真空中高反射率涂层激光诱导损伤阈值的影响
研究了真空中有机污染物对涂层激光诱导损伤阈值(LIDT)的影响。 通过电子束蒸发法沉积在1064 nm具有高反射率的TiO2 / SiO2介电镜。 镜子的LIDT分别在真空和大气中测量。 已经发现,由于低压,真空中的污染物容易被吸引到光学表面上,并成为损坏的来源。 当擦除有机污染物时,与大气相比,镜子的LIDT在真空中的变化很小。 结果表明,有机污染是降低LIDT的重要原因。 真空中的N-2分子可以减少有机污染物的影响并保护高反射率涂层。
研究了真空中有机污染物对涂层激光诱导损伤阈值(LIDT)的影响。 通过电子束蒸发法沉积在1064 nm具有高反射率的TiO2 / SiO2介电镜。 镜子的LIDT分别在真空和大气中测量。 已经发现,由于低压,真空中的污染物容易被吸引到光学表面上,并成为损坏的来源。 当擦除有机污染物时,与大气相比,镜子的LIDT在真空中的变化很小。 结果表明,有机污染是降低LIDT的重要原因。 真空中的N-2分子可以减少有机污染物的影响并保护高反射率涂层。