重掺硅衬底材料中氧沉淀研究进展

baidu_14610 8 0 PDF 2020-12-13 07:12:48

张红娣,刘彩池(河北工业大学半导体材料研究所,天津 300130)摘要:对国内外在重掺硅中氧沉淀方面的研究做了综合阐述,对氧沉淀研究现状和存在问题进行了讨同时就热处理,掺杂剂对氧沉淀的影响做了浅析,使人们对重掺硅衬底中氧沉淀这一领域有更深的认识。关键词:重掺硅;氧沉淀;掺杂剂;退火中图分类号:TN305.3 文献标识码:A 文章编号:1003-353X(2004)06-0076-041 引言器件性能的提高,需要器件工艺的改善,另外还要有基础材料质量的保证。材料的发展更能促进器件发展的飞跃,而材料的性能又取决于其内部结构。半导体硅材料以丰富的资源、优质的特性、日臻完善的工艺以及广泛的用途等综合优

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