图形刻蚀技术 (Etching Technology)

虽然,光刻和刻蚀是两个不同的加工工艺,但因为这两个工艺只有连续进行,才能完成真正意义上的图形转移。在工艺线上,这两个工艺是放在同一工序,因此,有时也将这两个工艺步骤统称为光刻。 湿法刻蚀:利用液态化学试剂或溶液通过化学反应进行刻蚀的方法。 干法刻蚀:主要指利用低压放电产生的等离子体中的离子或游离基(处于激发态的分子、原子及各种原子基团等)与材料发生化学反应或通过轰击等物理作用而达到刻蚀的目的。 湿法刻蚀是将刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术。它是一种纯化学刻蚀,具有优良的选择性,它刻蚀完当前薄膜就会停止,而不会损坏下面一层其他材料的薄