Ag掺杂Cu2O薄膜的制备及光催化性能研究

通过磁控溅射方法制备了Ag掺杂Cu2O纳米薄膜。用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电能谱(XPS)和荧光光谱仪(FLO)对薄膜的晶体结构、表面形貌、表面性能和光催化性能进行了分析。研究表明,Ag的掺杂使得Cu2O薄膜表面粗糙度增加、光生电子和空穴的复合率降低,并且可见光催化活性明显提高;在光照120min后,降解率达到了50%以上;Ag掺杂也了改进了薄膜的稳定性和可重复性。