氧分压对非晶SiO2薄膜结构及性能的影响

weixin_65580 17 0 PDF 2020-07-18 09:07:57

氧分压对非晶SiO2薄膜结构及性能的影响,丁安邦,牟宗信,不同氧分压下,采用中频反应磁控溅射方法在单晶硅基体上制备SiO2 薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、原子力

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