随着光通信的飞速发展,Si基SiO2平面光波导集成器件的应用更加重要和广泛。在Si基上制备高质量的厚SiO2薄膜,是制作SiO2光波导及其集成器件的基础。本文介绍了Si基厚SiO2薄膜的几种制备方法。
通过电化学沉积法从N,N-二甲基甲酰胺(DMF)溶液中制备出铜掺杂氧化镍电致变色薄膜,采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、紫外可见分光光度仪(UV-vis)、傅里叶变换红外光谱仪(F
用溶胶-凝胶法能够有效地制备含0.5%的具有量子尺寸效应的Bi2S3微晶掺杂硅薄膜.薄膜的室温透射光谱发现,在500 °C热处理时,随着热处理时间的延长,薄膜的特征透射谱谷会发生向长波方向的移动,作者
纳米ZnS∶Cu薄膜谐振腔的制备及特性研究,秦旭锋,茅惠兵,采用水浴法沉积了不同Cu掺杂浓度的ZnS∶Cu纳米薄膜。用X射线衍射仪对样品的结构进行表征,结果表明样品为立方相结构。荧光光谱分析�
纳米复合超硬薄膜的制备、性能及其工业应用,马胜利,马大衍,本文分别用直流、脉冲直流和微波等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)技术得到了Ti-Si-N、Ti-B-N及Ti-Al-Si-N纳米复合超硬薄膜
Cu2ZnSnS4薄膜的制备研究,唐明华,郭军,高效率、低成本、长寿命的Cu2ZnSnS4(CZTS)薄膜太阳能电池引起了国内外的高度重视。作为光吸收层的CZTS薄膜是该太阳能电池的关键材料�
报道了一种利用偏压恒流等离子辅助热丝化学气相沉积方法在硅基板上制备大面积均匀纳米金刚石薄膜的新工艺,在不同沉积条件下研究了纳米金刚石薄膜的成核和生长过程,并通过扫描电镜、拉曼光谱和表面粗糙度测试仪观察
采用溶胶-凝胶法在玻璃基底上制备了ZnO∶Li薄膜。研究了薄膜厚度对薄膜结构及光电性能的影响,结果表明:所有薄膜均由具有c轴优先生长取向的六角纤锌矿结构的ZnO晶体构成,晶体的粒径随厚度的增加先增大而
阳极氧化制备TiO2纳米管及其光催化性能研究,王昱征,吴玉胜,采用阳极氧化法在金属钛表面制备出高度规则排列的TiO2纳米管阵列。研究不同氧化电压对纳米管阵列生长特性的影响。采用X射线衍射和�
利用磁控溅射法,在不同工作压强下制备了氧化钨(WO3)薄膜,研究了工作压强对WO3膜层微观结构的调控作用,并研究了WO3膜层微观结构对其电致变色性能的影响。研究结果表明,制备的WO3薄膜属于非晶相,表