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提出一种分析微波等离子体化学气相沉积工艺条件对金刚石薄膜的组成和光学性质影响的方法。采用红外椭圆偏振光谱仪来分析Si衬底上金刚石薄膜的组成和光学性质,研究微波等离子体化学气相沉积法生长条件和退火工艺对
利用氟化氪(KrF)脉冲准分子激光烧蚀沉积(PLD)技术,通过对激光等离子体的粒子成分以及空间分布的诊断,实现了等离子体成分的选择性沉积。在不降低光谱范围和透过率指标的前提下,解决了类金刚石(DLC)
介绍了一种利用脉冲准分子激光轰击钛(或镍)靶诱导出等离子体从而在金刚石颗粒表面沉积Ti,Ni等金属保护层的新方法。使用抗压强度测定仪测定并比较了金刚石颗粒表面镀敷金属层前后的抗压强度值,使用金相显微镜
采用辉光放电等离子体增强化学气相沉积(GP-CVD)技术在低温条件下合成了高品质的亚微米金刚石薄膜,并通过对合成过程的实时发射光谱诊断确定了[CH4-H2]系统参与金刚石合成反应的主要荷能粒子.对合成
激光诱导固态转变合成金刚石研究进展,孙景,,本文介绍了激光诱导固态转变合成金刚石的研究进展,讨论了金刚石各种合成方法的机理,并提出一种激光诱导液体介质中石墨颗粒固态
针对孕镶金刚石钻头在坚硬岩石中的低钻速、高能耗问题,提出以体积破碎的碎岩方式来提高钻进效率的方法。为了进一步探究孕镶金刚石钻头的体积破碎形式,首先设计了单颗金刚石压入岩石全过程的室内实验。通过分析试验
超薄类金刚石膜的结构和生长特性研究,钟敏,张晨辉,采用磁过滤阴极真空弧(FCVA)方法制备了1~20nm的超薄类金刚石(DLC)膜,用原子力显微镜(AFM)对其表面形貌进行观察,并用透射电子
构建了高斯脉冲激光线刻蚀能量密度分布模型,研究了激光功率和脉冲数对化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)金刚石表面上的点/线尺寸的影响规律,得到了能量在材料表面的扩
类金刚石膜(DLC)是由sp3,sp2以及sp1键混合而成,具有优异的物理、化学性能。简要介绍了类金刚石膜的形成及性质,着重概括了它在惯性约束聚变(ICF)研究中的应用潜力,并进一步讨论了研究中存在的
非金属掺杂类金刚石(DLC)膜可以优化纯类金刚石膜的一些性能。例如:掺磷DLC膜电阻率小,还可以明显提高其血液相容性;掺氮DLC膜不仅电阻率小,可作为半导体材料,还具有热稳定性好的优点;掺氟DLC膜在
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