L-MBE法制备氧化镓薄膜,孔德敏,刘爱华,本实验用L-MBE(激光分子束外延)法在蓝宝石衬底上制备氧化镓薄膜,并研究了氧分压和激光能量对氧化镓薄膜结晶质量的影响。并利用X
微波诱导燃烧法制备Ag/TiO2纳米材料及其光催化性能研究,吕遵桃,曹渊,本文以尿素为燃料,钛酸丁酯为钛源和氧化剂,硝酸银为掺杂源,通过微波诱导燃烧法合成银掺杂的二氧化钛纳米材料。并用X射线衍射(
用N-N二甲基乙酰胺(DMAC)作溶剂,钛酸丁酯作前驱物,冰乙酸为稳定剂,通过溶胶凝胶法制得了二氧化钛(TiO2)溶胶,并且对加水方式、加水量、溶剂量、pH值、温度等影响因素进行了考察。结果表明,当采
采用一种新方法,用脉冲CO2激光器获得了掺氢非晶硅薄膜。描述了我们的实验。给出了生长速率与有关实验参数的关系和合适的工作条件;测量和分析了这种薄膜的某些性质。
薄膜表面形貌定量研究有助于薄膜生长机理的认识。研究的薄膜是用激光脉冲沉积法(PLD)制备的ZnO:Ga(GZO)透明导电薄膜。由于GZO薄膜的生长是在远离平衡态情况下实现的,具备自仿射分形特征,可以用
用于制造微电子器件的薄膜都是使用某种沉积技术形成的,该术语是指在基板上形成沉积物。在半导体器件制造中,以下沉积技术(及其常用的缩写)为:
氢气对化学气相沉积热解炭的影响,樊哲琼,谭瑞轩,为了研究氢气载气对化学气相沉积微环境的影响,自行设计了化学气相沉积炉并在温度为900℃,体积比为1:10丙烯/载气条件下,载气分别�
提出并建立了基于气-液-固(VLS)和气-固(VS)模式在金属有机化学气相沉积脉冲生长中的组合效应的GaN纳米棒(NR)生长过程的理论模型。 特别地,通过引入用于表面沉积的孵育时间,提出了用于形成富含
掺氮TiO2薄膜及其光催化去除水中氮,柳丽芬,马慧,在溶胶-凝胶过程掺入氨基酸成分来制备掺氮TiO2光催化薄膜。利用UV-VIS对所得催化剂进行了表征,并测定了该催化剂在紫外、日光照射下�
研究了不同工艺参数条件下, 电子束蒸发TIO2薄膜的光学特性.在正交实验的基础上,利用离子束辅助沉积技术, 获得了影响TIO2薄膜折射率的主要因素, 得到了TIO2薄膜的折射率随氧气分压的关系.