基片温度对PLD方法制备的ZnO薄膜结构和性能的影响 下载 dss36619 20 0 PDF 2020-06-08 07:06:58 基片温度对PLD方法制备的ZnO薄膜结构和性能的影响,陈亚,李小丽,采用脉冲激光沉积(PLD)方法在玻璃基片上沉积了ZnO半导体薄膜,详细研究了基片温度对ZnO薄膜的沉积速率,结晶取向,透过率、带隙、载� 立即下载 微信扫一扫:分享 微信里点“发现”,扫一下 二维码便可将本文分享至朋友圈。