溅射功率和退火时间对Ca2Si薄膜结构特性的影响,任雪勇,谢泉,采用射频磁控溅射技术在Si(100)衬底上制备出Ca2Si薄膜,研究了溅射功率和退火时间对薄膜的晶体结构、表面形貌的影响。X-射线衍射(