使用无意掺杂的AlN / GaN超晶格作为阻挡层的AlGaN / GaN异质结构的生长和表征

通过金属有机气相沉积(MOCVD)在C面蓝宝石上生长使用无意掺杂的AlN / GaN超晶格(SLs)作为阻挡层的AlGaN / GaN异质结构。 与传统的硅掺杂结构相比,电性能得以改善。 平均薄层电阻为287.1Ω/ sq。 整个2英寸外延层晶圆的电阻均匀性为0.82%,Al含量为38%。 霍尔测量表明,在室温下二维电子气(2DEG)的迁移率为1852 cm2 / V s,片载流子密度为1.2×1013 cm-2。 均方根粗糙度(RMS)值为0.159 nm,扫描区域为5×5μm2,清晰可见单层台阶。 讨论了性能改善的原因。 ? 2008爱思唯尔有限公司