基于DRIE工艺的静电梳齿稳定性分析,徐国栋,张宏群,实际体硅DRIE工艺刻蚀的梳齿结构存在微小的角度偏移,导致了基于理想刻蚀结构的静电梳齿稳定性分析存在很大误差。本文分别建立了��