光刻机和光掩模版

周虎明 韩隽(中国电子科技集团公司第58研究所,江苏 无锡 214035)摘要:光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配,如

ASML光刻机介绍

描述了光刻机及行业现状，浸润式光刻机，各种制程，ASML

着重介绍了当前国外步进扫描投影光刻机的工件台和掩模台的发展状况,并对套刻精度和整机精度进行了分析.

全芯片多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的重要发展方向。提出了一种基于粒子群优化(PSO)算法的光源掩模投影物镜联合优化(SMPO)方法。将由像素表征的光源、由离散余弦变换基表征的掩模及由泽尼克系数表

针对光刻机照明系统的实际应用需求, 提出了一种光瞳特性参数的评估算法。该算法通过对光瞳强度分布进行转换, 可以在不同照明模式下同时计算光瞳椭圆度、X方向光瞳极平衡性、Y方向光瞳极平衡性和四象限光瞳极平

光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上,为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3,耗费时间约占整个硅片工艺的40~

极紫外光刻机光源技术

光刻机(NIKON)的设计与结构

■ [产品名称]:TG2U型光刻机 ■ [工艺方案]: 半导体设备 ■ [产品简介]: 产品特点:TG2U型光刻机是制造中,大规模集成电路,传感器,表面波元件,磁泡,微波和CCD等器件的重要光刻设备。