在曝光线宽为90 nm的投影光刻机中,准分子激光光源发出的矩形截面光束,需要进行一维扩束,以获得光束整形单元所需的正方形截面分布。现有的这类扩束单元分别存在严重的相干散斑效应和严格的装调公差等不足。基
提出了一种在原子力显微镜(AFM)基础上设计的探针诱导表面等离子体共振纳米光刻(PSPRN)系统。此系统不但实现了探针的精确控制,而且由于系统本身具有AFM的全部功能,因此可以实时检测样品表面的形貌以
基于VCM的Talbot光刻高精度定位控制系统。
光束稳定技术是光刻机照明系统中一项重要的单元技术,其作用是将激光器出射的经长距离传输后的光束稳定在需要的指向和位置上,以保证照明系统具有稳定的光强分布。光束稳定系统主要由光束测量和光束转向两个功能模块
反向比例放大器的原理和应用。反向比例放大器是一种常见的电路设计,可以将输入的电压信号进行反向放大。首先,本文将详细解释了反向比例放大器的工作原理。然后,针对该电路的不同应用场景,介绍了如何根据需求进行
无线网络覆盖优化对现网用户感知度的提升非常重要,良好的无线网络覆盖是保障移动通信网络质量和指标的前提。而如何做好覆盖优化面临如下挑战:怎样才能掌握网络的真实覆盖情况,为优化工作开展打下基础?怎样避免传
suse系统完整配置apache集群实例,包括安装介质下载,操作系统参数调整,apache-httpd程序编译,tomcat-connectors编译,负载均衡设置,memcached实现sessio
在使用电子元器件时,你有时候不可避免地会闻到明显是芯片烧焦的味道。这都是反向电流惹的祸。反向电流就是由于出现了高反向偏置电压,系统中的电流以相反的方向运行;从输出到输入。幸运的是,有很多方法可以保护你
多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的发展方向。提出了一种以光刻胶三维形貌差异为评价目标的光刻多参数联合优化方法。以多个深度位置的光刻胶图形误差为目标函数,对光源、掩模、投影物镜波前、离焦量和曝光剂量进
【激光刻印机】使用技巧介绍!激光刻印机100个问答zip,【激光刻印机】使用技巧介绍!激光刻印机100个问答
