椭偏技术在研究多孔低介电常数薄膜中的应用,许金海,刘雪芹,多孔低介电常数(Lowk)材料有望作为集成电路互连介质的优良候选材料之一。椭偏技术不但可以快速、简捷、无损伤的测出薄膜的光学�