空穴孔阵微晶玻璃基片的研究,韩建军,阮健,以Li2O-SiO2-Al2O3-K2O-Na2O为系统的微晶玻璃,加入少量添加剂,制备出厚度为0.5-1.0mm的基片材料。在紫外灯下屏蔽曝光5-40min,热处理后获得�