精度可靠的二维OPC测试图形生成新方法,夏国帅,黄其煜,在65纳米及以下的节点制程中,面对k1因子值较低的光刻条件,尽管已使用最先进的光刻机台来曝光也会面临着解析度到达极限的问题。��