Cd掺杂对Cu2SnS3薄膜结构和性能的影响

NH3流量对PECVD技术制备的a-Si-CN:H薄膜的微观结构和氧化性能的影响

<正> Sn / Cu / ZnS前驱体在室温下通过蒸发沉积在钠钙玻璃上,然后在550°C的硫气氛中硫化3 h,制得Cu2ZnSnS4(CZTS)多晶薄膜。用X射线衍射,能量色散X

我们已经研究了锰掺杂引起的氮空位(VN)对通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长的(Ga,Mn)N薄膜的电子结构和传输性能的影响。 (Ga,Mn)N膜中n型载流子浓度的显着增加归因于由Mn掺杂引起

CrN硬质薄膜的制备工艺对其性能的影响，冶艳，江利，本研究采用封闭磁场非平衡磁控溅射法，在高速钢M42表面覆盖CrN薄膜；利用SEM表征薄膜组织结构和表面形貌，并用洛氏硬度计压坑法测定

主盐浓度对电沉积Cu(In,Ga)Se2薄膜成分与形貌的影响，刘仪柯，陈志伟，采用电沉积法制备Cu(In,Ga)Se2薄膜，研究主盐浓度对薄膜的成分与形貌的影响规律。研究结果表明，主盐浓度可显著影响电

制备工艺对BaO-TiO2-B2O3-SiO2体系LTCC性能和微观结构的影响，崔学民，叶少峰，本文研究了溶胶-凝胶法、高温熔融法、预煅烧法分别制备的BaO-TiO2-B2O3-SiO2体系LTCC的

热处理温度对WO3电致变色薄膜的微观结构与宏观性能的影响，丁磊，季惠明，以钨酸为原料，通过回流的方法制备出了性能稳定的WO3溶胶；采用溶胶浸渍提拉的方法制备出了氧化钨电致变色薄膜，着重探讨了热处理

He离子注入对Cu/Cr和Cu/Nb纳米金属多层膜力学性能的影响，朱望波，牛佳佳，Cu/Nb, Cu/Cr纳米金属多层膜具有多界面性和良好的力学性能，能够有效的阻挡入射的辐照离子，并在辐照后保持良好的

W-S-C(N)薄膜结构及摩擦学性能研究进展,朱炼,尹亮,摩擦磨损是导致机械零部件失效的一个重要原因,固体润滑剂因其在恶劣环境下仍具有良好的减摩耐磨效果受到广大学者的关注。WS2固体

这是中国科学院研究生院现代固体物理分析方法课程之一。版权所有麦振宏先生所有，主要是关于 x射线分析波膜结构的知识，只为您提供 x射线的使用，不作商业用途