28nm镍化合金工艺中激光退火温度日常监控方法的研究,顾海龙,黄其煜,半导体集成电路的工艺线宽正在按照摩尔定律不断缩小,而器件的性能却在不断提高。为了有效地解决源漏极和栅极之间的互连接触电阻