基材温度是通过热丝化学气相沉积（HFCVD）制造的金刚石膜的重要因素，这会影响金刚石膜的晶粒尺寸和质量。为了在切割工具上沉积高质量的多晶金刚石膜，需要进一步研究基板的温度分布。因此，使用三维有限元模拟来研究具有不同排列的细丝的温度场，这对基板温度分布具有深远的影响。根据仿真结果，确定了距钻尖的距离和细丝之间的间隙的最佳参数。随后，以从模拟结果获得的最佳值进行了在WC-Co钻头上沉积金刚石膜的实验。然后，通过扫描电子显微镜（SEM）和拉曼光谱研究所制造的金刚石膜。结果表明，钻头的表面覆盖有一层连续的金刚石膜，这证明了模拟沉积参数是有益的，并提供了一种新方法来调节用于沉积金刚石膜的CV