厚胶移动掩膜UV光刻模拟,余倩,周再发,基于菲涅耳衍射模型对移动掩膜曝光过程进行模拟,利用掩膜的移动函数计算掩膜移动对曝光的影响,同时考虑UV光在空气/光刻胶界面的