MFIS结构保持损失的PFM研究,张中华,钟向丽,首先,采用脉冲激光沉积法在Si(100)基片上依次制备了HfO2绝缘层和SrBi2Ta2O9无铅铁电薄膜,形成了金属-铁电-绝缘层-硅(MFIS)结构。然后,研