荧光XAFS研究超硬TiN/Si3N4多层膜的界面效应,潘志云,Zhihu Sun,本文采用荧光XAFS和XRD研究了磁控溅射法制备的在20、200、500和800°C生长的超硬TiN/Si3N4多层膜的结构。结果表明生长温度对TiN与Si3N4界面混�