微晶硅沉积的射频等离子体辉光发射谱,朱锋,赵颖,采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术在高沉积功率、低衬底温度的条件下沉积微晶硅薄膜材料。光发射谱(OES)测量技术�