激光调节是提高电子束蒸发制备的HfO2 / SiO2多层膜激光损伤阈值的有效方法。 在本文中，讨论了一些可能影响激光调节效率的参数。 结果是，最大调节通量应小于其未调节的激光诱导损伤阈值（LIDT）的90％，以避免损坏膜。 脉冲之间的激光束增量和激光调节步骤对提高HfO2 / SiO2多层高反射涂层的损伤阈值有很大影响。 缺陷上光强度的覆盖范围应尽可能宽，光强度的照射范围应尽可能高。 HfO2 / SiO2多层高反射涂层的激光调理的主要机理可能是去除Hf，Si和O离子以及去除膜中的缺陷。