N3-掺杂对SiO2:Ce纳米材料发光性能的影响,徐光青,郑治祥,分别采用化学掺杂和气氛控制方法对溶胶-凝胶法制备的SiO2:Ce纳米发光材料进行阴离子(N)掺杂,并采用透射电镜(TEM)、X射线光电子