插入空穴缓冲层是提高电致发光器件的发射效率的有效方法。 我们已经成功地通过铃木偶联反应合成了由pyr，席夫碱和三羟基叔丁基组成的新型空穴缓冲材料PSB。 根据循环伏安图，HOMO和LUMO的水平分别为-6.33 eV和-2.55 eV。 此外，通过旋涂工艺很容易获得均质膜（均方根粗糙度〜2 nm）。 多层聚合物发光二极管ITO / PEDOT：PSS / PSB / SY / LiF / Al使用PSB作为空穴缓冲层（HBL）制成。 与没有PSB的PSB（9802 cd / m2、2.43 cd / A）相比，插入PSB作为HBL可以显着提高性能（最大亮度：26,439 cd / m2，最大电