射频磁控反应溅射制备Al_2O_3薄膜过程中迟滞效应的消除,赵以德,,反应磁控溅射过程中的迟滞效应是限制它的应用发展的主要问题之一。本文在分析Berg模型的基础上,仿真模拟了Al_2O_3薄膜反应溅射过程�