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通过建立原子层沉积(ALD)脉冲气体流场理论模型, 分析了沉积过程中前驱体浓度的变化趋势, 得到了原子层沉积腔中的优化沉积区域。在此基础上, 开展了半球基底上Al2O3和TiO2薄膜的均匀性实验。实验
基于力学参数模型研究了NFO/BTO层状复合薄膜的磁电效应, 发现当压电相的体积分数约为0.47时, 磁电耦合性能最好。通过脉冲激光沉积法在掺 0.7%Nb的(001)-STO衬底上生长了不同体积分数
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溅射气压对单靶磁控溅射制备的Cu2ZnSnS4薄膜结构及性能的影响，文斌，刘超前，本文基于脉冲直流磁控溅射技术，利用自制单一Cu2ZnSnS4(CZTS)陶瓷靶材于室温下在普通纳钙玻璃上沉积了CZTS
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当然不是，但是如果人们相信信息不会在量子引力理论中被破坏，那么当我们考虑蒸发黑洞时，我们就会遇到与量子理论明显的矛盾。即违反了无克隆定理或纠缠一夫一妻制的原则。在这里，我们表明没有违反行为是必要的，因
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