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TheFundamentalsOfDigitalSemiconductorTesting
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第三版,涉及:电阻,载流子浓度和掺杂密度,接触电阻和肖特基势垒,串联电阻和沟道长度宽度,阈值电压,缺陷,氧化界面,载流子寿命和迁移率,光学特性,化学物理特性,以及可靠性等多方面问题的研究,是一本优秀的
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半导体入门经典资料,做半导体测试和设计必读
宽禁带半导体资源,关于其制备使用等信息,BN,AlN,SiC等
'AN INTRODUCTION TO SEMICONDUCTOR DEVICES' neamen 著
Semiconductor Device Physics and Design by UMESH K. MISHRA University of California, Santa Barbara,
The Fundamentals of Digital Semiconductor Testing.pdf
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