我们确定对e + e −→bb¯W + W − X $$ {e} ^ {+} {e} ^ {-} \到b \ overline {b} {W} ^ {+ } {W} ^ {-} X $$生产截面接近最高成对生产阈值。 计算包括最终状态的非共振产生以及具有非相对论性求和的共振顶抗顶对产生中的电弱效应，并将理论预测提高到NNNLO QCD加上NNLO电弱精度。 然后，我们研究在未来的轻子对撞机上，新贡献对顶级对阈值扫描的影响。