阳极氧化SiO2退火工艺对硅光生少子复合的影响,文都子,刘维峰,本论文采用电化学方法在绒面硅表面生长一层二氧化硅钝化层,在不同退火温度和时间下研究了硅的光生少数载流子复合过程。使用高频