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基于光刻胶正胶曝光显影过程的理论模型, 用梯度折射率介质光线追迹的方法进行了由于局部溶解速率不同而造成的显影过程中胶面面形随时间变化过程的计算。 对任意给定的曝光量分布及显影时间, 可以精确地确定显影
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应用随机数来进行模拟试验,运用分段插值进行拟合Matlab求解。
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