等离子体沉积亲/疏水性SiCOH膜层血液相容性研究,王贵学,张勤,采用低温等离子沉积技术在Si片表面沉积SiCOH膜层,等离子体反应单体为三甲基硅烷(trimethylchlorosilane,TMS)和氧气。通过控制TMS与O2的流