IC Mask Design Essential Layout Techniques

sinat_80641470 55 0 PDF 2019-01-02 08:01:15

IC Mask Design Essential Layout Techniques 中文版:北京:清华大学出版社,2006 译名: 集成电路掩模设计:基础版图技术/(美)塞因特(Saint Christopher)，塞因特(Saint Judy)著周润德，金申美译

lovesoulmate 2019-01-02 08:01:17

介绍是中文版,却是英文版...

caixuemin68602 2019-01-02 08:01:17

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