液晶显示器由于具有高清晰度、低功耗、零辐射、长寿命、体积小等特点已经成为显示器件的主流,主要的液晶显示技术有ECB、TN、IPS及MVA等。MVA模式液晶显示技术由于具有高对比度、宽视角以及快速响应等特点,已经成为大尺寸液晶显示器的主流技术。 但是在MVA模式液晶显示器件中需要在电极基板上制作一些凸起以及氧化铟锡的细缝结构,这些凸起和细缝结构的制作极为复杂而且成本很高,并且这些凸起和细缝的对位十分困难,大大地降低了产品的良率。 为此,如何避免制作这些凸起结构已经成为许多科研工作者的研究重点。AIFF MVA模式液晶显示技术在制作过程中避免了制作普通MVA模式中需要的复杂且昂贵的凸起结构