KLA-Tencor公司日前宣布推出WaferSight PWG已图案晶圆几何形状测量系统、LMS IPRO6光罩图案位置测量系统和K-T Analyzer 9.0先进数据分析系统。这三种新产品支持KLA-Tencor独特的 5D图案成型控制解决方案,此方案着重于解决图案成型工艺控制上的五个主要问题--元件结构的三维几何尺寸、时间效率和设备效率。5D图案成型控制解决方案主要通过对光刻模块工艺和非光刻模块工艺的量化、优化和监控,来获取最佳的图案成型结果。通过将以上设备测量结果与智能反馈及前馈工艺控制回路相结合,此项解决方案能够帮助芯片制造商利用现有工艺设备以更快及更有成效的方式来提升多重图案成型