Applied Materials Inc.已向精密测量领域迈进,日前发布了其最新的深紫外明视野晶圆检测设备——UVision 3系统。 据Applied介绍,该设备专为45nm节点关键缺陷监测而设计。如果配合灵敏光电倍增管(PMT)使用,UVision 3还可用于32nm存储产品的制造。 Applied还介绍,该系统用于扫描晶圆的激光束是市场同类产品的3倍,这使得吞吐量提升40%。据悉,在该市场上Applied正与KLA-Tencor Corp等设备商竞争。 此外,Applied还介绍了该设备的其他优势。该设备应用了两种全新图像模式使分辨率可低至20nm。另外一套全新的缺陷