日前SOKUDO宣布推出一款业界最具生产能力最具成本效益的涂敷显影track系统RF3T,并将在Semicon Japan 2007上展出。 该新品建立在RF3平台基础上,相较于上代产品RF3S,吞吐量提高了10%,可达200片晶圆每小时,与最快的光刻扫描设备保持同步;8个显影模块使得显影清洗能力提高了60%;新的晶圆涂敷分散系统显著减少了化学药品消耗,降低了运作成本。总的来说,RF3T能够针对光刻工艺在最低成本下提供最高的工艺性能。 美国应用材料与大日本网屏制造合资组建了SOKUDO公司,专注于开发销售半导体制造所需要的先进涂敷显影track系统。公司成立后在去年九月份推出了RF