近日,应用材料公司推出Centura? Carina? Etch系统用于世界上最先进晶体管的刻蚀。运用创新的高温技术,它能提供45纳米及更小技术节点上采用高K介电常数/金属栅极(HK/MG)的逻辑和存储器件工艺扩展所必需的材料刻蚀轮廓,是目前唯一具有上述能力并可以用于生产的解决方案。应用材料公司的Carina技术具有独一无二的表现,它能达到毫不妥协的关键刻蚀参数要求:平坦垂直,侧边轮廓不含任何硅材料凹陷,同时没有任何副产品残留物。 应用材料公司资深副总裁、硅系统业务部总经理Tom St. Dennis表示:“这是第一套专门为应对HK/MG产品的挑战而设计的刻蚀系统。我们的客户对Ca