李希有,周 卫,张 伟,仲 涛,刘志弘(清华大学微电子学研究所,北京 100084)摘要:采用正交试验法对二手RIE刻Al设备A-360进行工艺参数选择试验,并以均匀性、刻蚀速率、 对PR选择比为评价指标。试验中发现RF功率是影响各评价指标的最主要因素。通过进一步优化工艺,制定出了均匀性小于3%,刻蚀速率高于300nm/min,对PR选择比好于1.8的刻Al实用工艺。关键词:反应离子刻蚀;正交试验;Al刻蚀;刻蚀速率 中图分类号: TN305.2文献标识码: A 文章编号:1003-353X(2004)11-0019-03 1 引言 由于Al及其合金具有较高的导电率、较好的对下层衬底或介质的粘