光刻缺陷及影响

NEU-DET是用于钢材表面缺陷检测的数据集，包含1800张原始图片及标签xml文件。其中，标签文件已经处理好，可直接供YOLO模型使用。该数据集包括6种常见的钢材表面缺陷类型，便于钢材表面缺陷检测算

PCB（PrintedCircuitBoard），中文名称为印制电路板，又称印刷电路板、印刷线路板，是重要的电子部件，是电子元器件的支撑体，是电子元器件电气连接的提供者。由于它是采用电子印刷术制作的，

底片,是pcb加工厂要用到的重要原材料之一。其与照相用的底片是一样的工作原理,因此对保存和使用的条件都有很高的要求。稍有不恰当的处理就会产生很多问题。这期我们就来讲讲底片的一 些缺陷原因及排除方法

随着PCB尺寸要求越来越小,器件密度要求越来越高,PCB设计的难度也越来越大。如何实现PCB高的布通率以及缩短设计时间,在这笔者谈谈对PCB规划、布局和布线的设计技巧。

光学薄膜的缺陷是光学系统性能提高的瓶颈, 一直是实验和理论研究的重点。选取电子束蒸发工艺制备光学多层膜的典型缺陷, 用扫描电子显微镜(SEM)测试了表面缺陷的形貌、成分。膜料选取:TiO2,SiO2。

光纤生产过程中,要求光纤致密、多层地缠绕于绕纤轮上,因此需要对光纤环绕制表面的绕制情况进行实时检测。介绍了光纤绕制过程监控系统的性能要求和总体设计方案,从硬件和软件2方面分析了选取方法和相应的测试流程

原子光刻中的原子沉积理论模拟及可视化，马艳，，通过一个一维的空间模型来模拟实际为二维空间中的原子传播，有效的简化了原子在激光会聚原子沉积过程中的波动方程，并且通过软件

研究一种步进扫描投影光刻机工作台扫描运动超精密轨迹规划算法及误差控制策略。在分析三阶扫描运动与步进运动 轨迹规划异同点的基础上,提出三阶扫描运动轨迹规划算法。针对扫描运动精确性与严格同步性要求,分析扫

光刻投影物镜中透镜的面形精度是影响光学系统成像质量的关键因素之一。为实现透镜面形精度均方根(RMS)值优于2 nm的高精度指标,提出一种轴向多点挠性支撑、径向三点可调式定位的光学透镜支撑结构。基于自重

在线光栅用于纳米光刻对准理论的基础上,为实现光栅方向的标定和掩模硅片对准,提出一种利用相位斜率消除角位移的新方法,并给出线光栅标记及其对准原理。在对准前,掩模对准标记和硅片对准标记存在角位移,重点讨论