在晶圆制造的整个过程中,晶圆要经过多次的化学刻蚀与清洗,每步刻蚀与清洗后都要经过清水冲刷 。在整个的制造过程中,晶圆总共要在冲洗的系统中待上好几个小时,一个现代的晶圆制造厂每天要使用多达几百万加仑的水,这样实际上产生了一个投资项目,包括水的加工处理、向各个加工工艺区的水的传输、废水的处理与排放17。由于半导体器件容易受到污染,所以所有工艺用水,必须经过处理,达到非常严格的洁净度要求。 城市系统中的水包含大量的洁净室不能接受的污染物: 1. 溶解的矿物 2. 颗粒 3. 细菌 4. 有机物 5. 溶解的氧气 6. 二氧化碳 普通水中的矿物质来自盐份,盐份在水中分解为离子。例如,食盐(氯化纳)会分