硅晶片研磨之后的清洗工艺

agent3711 11 0 DOCX 2020-12-24 07:12:26

本发明的工艺一般涉及到半导体晶片的清洗。更确切地说,本发明涉及到可能存在于被研磨的单晶硅晶片的表面上的有机残留物、金属杂质和其它特定的沾污物的清洗处理步骤的顺序。

用户评论
请输入评论内容
评分:
暂无评论