瑞萨科技公司(Renesas Technology Corp.)近日宣布开发出一种用于65nm(纳米)工艺的铜电子熔丝技术,其低介电常数不会导致低介电系数材料的开裂,因此具有很高的可靠性。 这种新技术在全球首次实现了利用熔融状态下切断铜熔丝的方法来防止低介电系数材料的开裂。该技术已经应用于65nm制造工艺的试验阶段,且已被证实可提供以下卓越的性能: 1.一根熔丝切断所需的时间少于10μs。 2.在熔丝完好无损的条件下,熔丝切断后的电流值可以减少到5位数或更大值。 3.切断的熔丝的高温老化测试没有显示出退化,这表明了一种高度的可靠性。 熔丝技术与背景介绍 熔丝广泛用于大规