通过电子束热蒸发技术在K9玻璃上镀制光学厚度为λ/4的TiO2薄膜,研究不同沉积速率和沉积角度对TiO2薄膜散射损耗的影响规律和机理,并利用TalysurfCCI白光干涉表面轮廓仪和Horos散射仪分别测量镀制前后薄膜表面粗糙度和双向反射分布函数。实验结果表明:TiO2薄膜表面粗糙度随着沉积速率的增大而减小,最终趋于0.88 nm,且实验值都小于基底表面粗糙度1.5 nm,说明TiO2薄膜可以降低基底表面粗糙度,具有平滑基底的作用。随着入射沉积角的增大,薄膜的表面粗糙度逐渐增大,当沉积角为0°和20°时,薄膜表面粗糙度小于基底表面粗糙度;当沉积角为40°和60°时,薄膜表面粗糙度大于基底表面粗