采用磁控溅射方法在K9 光学玻璃基片上沉积一定厚度的铜薄膜,通过X 射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、光栅光谱仪等检测铜薄膜结构、光吸收性质。检测结果表明:所制备的Cu 膜结晶度较好;Cu 膜的吸收波段较宽,半峰全宽为201 nm,但光栅光谱仪所得的吸收谱与紫外可见光分度计所得吸收谱存在差异:对同一金属薄膜,由光栅光谱仪得到的吸收光谱比由紫外可见分光光度计得到的吸收光谱,峰位产生了“红移”,且峰数不同,原因是光源的不同及实验仪器分辨率的不同。