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针对数字共焦微米技术中的压电陶瓷物镜驱动系统,分析了模糊的PID控制器的控制性能,提出了离线优化思想,将初始参数的优化从在线实时调整中分割出来,在离线状态下预先采用遗传在MATLAB环境中,通过优化的
浸液光刻投影物镜的数值孔径目前已经达到1.35,这对与之匹配的照明系统光瞳测量提出了十分苛刻的需求,为此设计了一种用于照明光瞳测量的傅里叶变换物镜。分析了傅里叶变换物镜应该满足的畸变要求,并针对照明光
光刻是大规模集成电路制造过程中最为关键的工艺,光刻的分辨力主要取决于光刻投影物镜的光学性能。光刻投影物镜光学元件面形精度为纳米量级,其对光学元件的加工及物镜单镜支撑提出了极高的要求。为193 nm光刻
极紫外(EUV)光刻物镜设计不仅要在系统优化阶段尽可能减小残余像差,还必须选择像质补偿器合理分配各项公差,从而在保证系统可制造性的前提下实现预期性能。针对一套数值孔径0.33 的极紫外光刻物镜,进行了
恒温水套是光刻物镜工作环境温度控制系统的重要组成部分。为了研究恒温水套的关键参数与性能,设计了一个小比例水套模型。恒温温控系统对其提供±0.001 °C的去离子水,通过对比三镜光机系统温度变化及热像差
为了实现高成像要求,投影光刻物镜在设计时需要考虑膜层偏振效应的影响,并进行相应的分析和评价。首先介绍了基于琼斯矩阵的偏振像差理论,然后以一个数值孔径(NA)为0.75的投影光刻物镜为例,设计了相应膜系
提出一种分析线性偏振照明条件下投影物镜偏振像差对交替相移掩模(Alt-PSM)空间像影响的解析方法。基于矢量光刻成像理论,从掩模空间像的光强分布推导出偏振像差引起的空间像图形位置偏移误差(IPE)和最
介绍变倍范围1×～613×连续变倍体视显微物镜的光学系统变倍原理,高斯光学计算及设计实例,通过设计实例说明变焦物镜的设计方法。
针对远程红外目标探测的需求,为提高光学系统在复杂环境下的探测能力,设计了制冷式红外双波段共光路折衍混合摄远物镜。摄远物镜的工作波段为红外中波(3~5 μm)及红外长波(8~12 μm),采用透射式共光
极端紫外光刻(EUVL)作为实现100~32 nm特征尺寸微细加工的优选技术,其光刻物镜的光学性能是实现高分辨图形制作的关键。利用光学设计软件CODE V对6枚非球面反射镜构成的光刻物镜设计和光学性能
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