针对45 nm及以下节点光刻相关技术的研究需求,确定了实验型投影光刻物镜的结构型式及设计指标。依据像差理论在非同心小遮拦的Schwarzschild反射系统中添加折射补偿镜组来进一步减小系统的中心遮拦,扩大像方数值孔径。设计了一套小中心遮拦,数值孔径为1.20的Schwarzschild折反式投影光刻物镜。设计结果表明,该投影光刻物镜工作带宽为100 pm,像方视场为50 μm,线中心遮拦比为13%,光学分辨力为80 nm时(6240 lp/mm)的系统调制传递函数大于0.45,全视场最大畸变为6.5 nm,满足了45 nm深紫外(DUV)浸没光刻实验平台对投影光刻物镜的需求。