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取样率是高能激光装置中衍射光栅的一个重要技术指标,针对取样率测量中存在的泊松噪声、杂散光干扰以及探测器不一致误差的影响,提出了一种组合噪声处理方法。对测量环境及探测器输出的统计特性进行了分析,通过统计
掩模图形不同区域的波前因衍射光的相干叠加作用而对光刻胶上的场点产生不同的影响。为研究这一作用规律,采用波前分割的方法对掩模图形上的波前进行区域划分,并利用光场相干叠加相互抵消的性质,最终得到了掩模图形
传统三维光刻矢量成像模型中将投影系统物方电磁场表示为二维形式,实现方式分为两种:采用局部坐标和忽略掩模衍射频谱的轴向分量。后者在浸没式光刻系统仿真中的适用性需要进一步分析。简述了忽略掩模频谱轴向分量的
使用衍射光学元件(DOE)作为投影光刻照明系统实现离轴照明(OAI)的光束整形匀光器件,能够在保持较高照明效率的基础上精确控制OAI光束的形状及光强分布。在矢量角谱传输方法的基础上,建立了投影光刻用D
激光光刻是加工微光学及二元光学掩模的主要手段。光刻的最细线宽对所加工的二元微器件性能起决定作用。本文导出了会聚的高斯光束用于激光光刻时在光刻胶内的光场近似分布形式,由此可判断出能光刻线条的分辨力。若入
激光刻蚀实现硅的近红外响应
Sinusoidal grating, rectangular hole, circular hole Fresnel diffraction and Fraunhofer diffraction t
空间并行处理是是实现激光快速加工行之有效的方法之一。衍射激光分束器以其设计灵活、效率高而成为激光并行整形的重要技术。针对平面激光加工的并行要求,提出双周期共轭结构的衍射激光分束器结构,获得了高效率、高
双光栅叠栅条纹对准方法具有精度高、可靠性强等特点,适用于接近接触式光刻。为了实现高精度测量,实际应用中要求掩模光栅标记与硅片光栅标记高度平行。掩模光栅标记在CCD中成像通常存在一定的倾斜角。由此,在已
利用准分子激光刻蚀法在光学玻璃上快速制作耐用的相位透射光栅
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